Установка формирования фоторезистивных масок на шаблонные заготовки УНФ-153

НАЗНАЧЕНИЕ:

Нанесение резиста на прямоугольные пластины из стекла и кварца методом центрифугирования. Ручная поштучная загрузка (выгрузка) фотошаблонов.

Состав установки:

  • модуль нанесения фоторезистов и электронорезистов;
  • блок обеспыливания;
  • система дозирования резиста;
  • блок силовой;
  • блок пневматический;
  • блок управления;
  • станина.

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:

  • Нанесение фоторезиста на поверхность подложек осуществляется тремя способами:

- на вращающуюся подложку;
- на неподвижную подложку;
- путем перемещения капельницы от центра подложки к периферии с одновременным вращением подложки.

  • Возможность регулирования вытяжной системы в процессе нанесения фоторезиста по заданной программе.
  • Контроль количества фоторезиста в емкости.
  • Наличие устройства, предотвращающее подсыхание фоторезиста в емкости и в кончике подающего сопла.
  • Технологическая программа работы установки задается с помощью графического дисплея.
  • Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2000).

ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ: 

ХАРАКТЕРИСТИКИ Ед.изм. УНФ-153
Размер обрабатываемых фотошаблонов мм 102 х 102 х 2,4
127 х 127 х 2,4
153 х 153 х 3,3
153 х 153 х 6,36
Диапазон времени выполнения каждой операции с 1 ÷ 999
Диапазон задания скорости вращения ротора центрифуги об./мин 200 ÷ 5000
Диапазон задания времени обработки с 1 ÷ 999
Дискретность  задания времени обработки с 1
Время разгона ротора центрифуги, не более, с (для заготовки 127х127х2,4) с 1
Диапазон задания дозы резиста мл 1,0 ÷ 8,0
Электропитание:    
 - сеть переменного тока В 220
 - частота Гц 50
Мощность потребляемая установкой, не более кВт 1,5
Габаритные размеры (Д x Ш x В) мм 1200 x 1005 x 2035
Copyright www.webdesigner-profi.de