НАЗНАЧЕНИЕ:
Нанесение резиста на прямоугольные пластины из стекла и кварца методом центрифугирования. Ручная поштучная загрузка (выгрузка) фотошаблонов.
Состав установки:
- модуль нанесения фоторезистов и электронорезистов;
- блок обеспыливания;
- система дозирования резиста;
- блок силовой;
- блок пневматический;
- блок управления;
- станина.
ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И ОСОБЕННОСТИ:
- Нанесение фоторезиста на поверхность подложек осуществляется тремя способами:
- на вращающуюся подложку;
- на неподвижную подложку;
- путем перемещения капельницы от центра подложки к периферии с одновременным вращением подложки.
- Возможность регулирования вытяжной системы в процессе нанесения фоторезиста по заданной программе.
- Контроль количества фоторезиста в емкости.
- Наличие устройства, предотвращающее подсыхание фоторезиста в емкости и в кончике подающего сопла.
- Технологическая программа работы установки задается с помощью графического дисплея.
- Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2000).
ОСНОВНЫЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ:
| ХАРАКТЕРИСТИКИ |
Ед.изм. |
УНФ-153 |
| Размер обрабатываемых фотошаблонов |
мм |
102 х 102 х 2,4 |
| 127 х 127 х 2,4 |
| 153 х 153 х 3,3 |
| 153 х 153 х 6,36 |
| Диапазон времени выполнения каждой операции |
с |
1 ÷ 999 |
| Диапазон задания скорости вращения ротора центрифуги |
об./мин |
200 ÷ 5000 |
| Диапазон задания времени обработки |
с |
1 ÷ 999 |
| Дискретность задания времени обработки |
с |
1 |
| Время разгона ротора центрифуги, не более, с (для заготовки 127х127х2,4) |
с |
1 |
| Диапазон задания дозы резиста |
мл |
1,0 ÷ 8,0 |
| Электропитание: |
|
|
| - сеть переменного тока |
В |
220 |
| - частота |
Гц |
50 |
| Мощность потребляемая установкой, не более |
кВт |
1,5 |
| Габаритные размеры (Д x Ш x В) |
мм |
1200 x 1005 x 2035 |
